GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機與同類設備的對比.發(fā)熱問題。同類設備在加工過程中，高粘物料進入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導致物料在設備腔體中停留時間過長而導致嚴重發(fā)熱。RGS2000系列設備在確保效果的基礎上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時間，降低了物料發(fā)熱的狀況。
超高速顏料研磨均質(zhì)機，染料分散設備，高剪切研磨均質(zhì)機，高速研磨均質(zhì)機，超細研磨均質(zhì)機
染料傳統(tǒng)的分散設備為批次研磨均質(zhì)機，隨著工業(yè)化的發(fā)展，以及染料行業(yè)的不斷進步，批次研磨均質(zhì)機的弊端暴露無遺，一是分散的不夠均勻，二是對于染料的細化能力不足。在這個大趨勢下，上海思峻自主研發(fā)了超高速高速研磨均質(zhì)機，SGN超高速高速研磨均質(zhì)機采用分體式結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，是批次研磨均質(zhì)機的4-5倍。物料一進一出，100%得到剪切分散，生產(chǎn)出來的染料產(chǎn)品，更加細膩均勻。
GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機與同類設備的對比
型號
| 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 Rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
GMD2000/4 | 300-1，000 | 14，000 | 44 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GMD2000/5 | 1，000-1,500 | 10，500 | 44 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GMD2000/10 | 3，000 | 7，300 | 44 | 15 | DN50 | DN50 |
GMD2000/20 | 8，000 | 4，900 | 44 | 37 | DN80 | DN65 |
GMD2000/30 | 20，000 | 2，850 | 44 | 75 | DN150 | DN125 |
GMD2000/50 | 40，000 | 2，000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求，上海思峻在GM2000的基礎上又開發(fā)出GMD2000系列。其剪切速率可以超過10000rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布就更窄。
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